平板狀氧化鋁微粉 該研磨拋光微粉是以徳國進口工業氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經特殊處理和嚴顆粒呈獨特的平板狀結構,硬度高達莫氏九級,磨削力強,不易產生劃痕,可得到**率、高精度的被加工表面,有特殊設計的粒度分布,質量和日本FUJIMI公司相當。2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點1)平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的**區別是:片狀,硬度高,粒度均勻。2)特點為:A、形狀為平板狀,即片狀,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可減少磨片機的數量、人工和磨削時間,如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍;B、由于形狀為平板狀,故對于被磨對象(如半導體硅片等)來說不易劃傷,合格品率可提高10%至15%,如半導體硅片,其合格品率一般能達到99%以上;C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高,故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少,如果磨同樣數量的產品,其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節約40%至50%;D、與國外同類產品相比,質量達到或超過國外同類產品,品質已達到國際標準,但產品價格只有國外同類產品的50%;E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優良性能,故加工的產品合格品率高,質量穩定,生產成本只有原來的50%-60%。(具體數據可見用戶報告)3、片狀氧化鋁是以工業氧化鋁為原料,添加復合礦化劑,經過高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料,平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:1)電子行業: 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋。2)玻璃行業: 硬質玻璃和顯象管玻殼的加工。3)涂附行業: 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。4)金屬和陶瓷加工業。三, 平板狀(片狀)氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指 平均粒度(D50值)(由Coulter Counter測試)規格型號 平均粒度(D50值)(由Coulter Counter測試)粒度 目數 (#)TWA0.8 0.8 10000#TWA1 1.0 8000#TWA2 2.2 6000#TWA3 3.1 4000#TWA5 4.7 3000#TWA9 6.4 2000#TWA GF1 7.0 2200#TWA12 8.4 1500#TWA15 10.5 800#TWA20 14.5 700#TWA25 17.4 700#TWA30 21.5 600#TWA35 25.5 500 #TWA45 36.0 360#TWA50 42.5 320#TWA55 50.0 280# TWA6 63.0 240# 注明(產品粒度以客戶使用要求標準為準) 粒度分布表以TWA12為例)標準粒徑實測數值(um)規格(um)**粒徑(dv-0值)16.9<23累積高度3%點的粒徑(dv-3值)13.63<19累積高度3%點的粒徑(dv-3值)8.57.8-9累積高度94%點的粒徑(dv-94值)4.44≥4化學成分化學成份分析值(%)規格值(%)AL2O3 99.38 99.3SiNa2O2 0.27 0.05Na2O 0.35 0.55Fe2O3 0.03 0.10物理指標:化學名稱 外觀 比重 莫氏硬度A-AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0包裝外貌:包裝材料內襯雙層塑料袋,紙箱外包裝包裝重量20KG/箱